Sputtering targets

Sputtering targets

Sputtering targets

Seit mehr als 25 Jahren stellt Gradel Targets für die Glasindustrie her.

Wir verfügen über spezifische Kenntnisse von Sputtering-Anlagen. Im Laufe der Jahre haben wir wertvolle Erfahrungen in Bezug auf Herstellung, Design und Optimierung gesammelt.

Zusätzlich bieten wir die Möglichkeit an, das Magnetfeld (3 Vektoren) einer planaren oder rotativen Kathode zu messen und zu optimieren.

Unsere weltweiten Referenzen:

Aktivitätsbereiche

Rotative Targets

Vermarktung und Herstellung von rotativen Targets mit einem patentierten kontinuerlichen Giessprozess.

Rotatable targets

Planare Targets

Planar Targets NiCr, Ag, Zn, Zn-Al, Zn-Sn, oder aus anderen Werkstoffen.

Targets planaires

Ingenieurs-leistung zur Optimierung

Optimierung von Magnetfeldlinien: Diagnose vor Ort, Prozessoptimierung

Service d'optimisation

Zubehör für Coateranlagen

Zubehör für Coateranlagen: Deckel von End-Block, Shields, Backing plates, usw…

Accessoires pour coaters

Kontakt

Patrick Lefèvre
 

T  : +352 39 00 44 54
F : +352 39 88 57

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